Личный кабинетuser
orange img orange img orange img orange img orange img
Дипломная работаНефтегазовое дело
Готовая работа №135854 от пользователя Успенская Ирина
book

Квантово-химический расчет взаимодействия газообразных мышьяка и фосфора с подложкой из GaAs в процессе эпитаксиального роста из газовой фазы.

2 100 ₽
Файл с работой можно будет скачать в личном кабинете после покупки
like
Гарантия безопасной покупки
help

Сразу после покупки работы вы получите ссылку на скачивание файла.

Срок скачивания не ограничен по времени. Если работа не соответствует описанию у вас будет возможность отправить жалобу.

Гарантийный период 7 дней.

like
Уникальность текста выше 50%
help

Все загруженные работы имеют уникальность не менее 50% в общедоступной системе Антиплагиат.ру

file
Возможность снять с продажи
help

У покупателя есть возможность доплатить за снятие работы с продажи после покупки.

Например, если необходимо скрыть страницу с работой на сайте от третьих лиц на определенный срок.

Тариф можно выбрать на странице готовой работы после покупки.

Не подходит эта работа?
Укажите тему работы или свой e-mail, мы отправим подборку похожих работ
Нажимая на кнопку, вы соглашаетесь на обработку персональных данных

содержание

Оглавление 2
Список используемых сокращений и обозначений 4
1. Литературный обзор 5
1.1. Введение 5
1.2. Метод металлоорганической газофазной эпитаксии 6
1.3. Технологии роста эпитаксиальных структур 7
1.3.1. Жидкофазная эпитаксия 10
1.3.2. Газофазная эпитаксия 12
1.3.3. Молекулярно-лучевая эпитаксия 13
1.3.4. МОС-гидридная эпитаксия 16
1.3.5. Новые технологии роста эпитаксиальных слоев 19
1.3.5.1. Химическая лучевая эпитаксия. 19
1.3.5.2. Атомно-слоевое осаждение 19
1.3.5.3. Миграционно-усилительная эпитаксия. 20
1.4. Технологические параметры метода МОСГЭ 21
1.4.1. Особенности МОСГЭ. 25
1.4.2. Основные параметры МОСГЭ. 25
1.4.3. Преимущества и недостатки МОСГЭ. 26
1.5. Термодинамика процесса МОС-гидридной эпитаксии 26
1.6. Методы контроля процесса МОСГЭ 29
1.6.1. Спектроскопия разностного отражения 31
1.6.2. Спектроскопия поверхностного фотонапряжения 33
1.6.3. Глубокоуровневая переходная спектроскопия 34
1.6.4. Дифракция рентгеновских лучей 35
1.6.5. Фотолюминесцентная спектроскопия 36
1.7. Строение приборов МОСГЭ 37
1.8. Материалы-источники для МОСГЭ. 38
1.9. InAsxP(1-x) 40
1.9.1. Свойства InAsxP(1-x) 40
1.9.2. Области применения InAsxP(1-x) 43
1.9.3. Особенности роста InAsxP(1-x) в условиях метода МОСГЭ. 44
1.10. GaAsxP(1-x) 46
1.10.1. Свойства GaAsxP(1-x) 46
1.10.2. Области применения GaAsxP(1-x) 48
1.10.3. Электронные устройства 49
1.10.4. Оптоэлектронные устройства 49
1.11. InxGa(1-x)AsyP(1-y) 51
1.11.1. Свойства InxGa(1-x)AsyP(1-y) 51
1.11.2. Особенности роста InxGa(1-x)AsyP(1-y) в условиях метода МОСГЭ 56
1.12. Адсорбция и десорбция фосфора и мышьяка на поверхности GaAs. 58
1.13. Квантово-химические методы расчета. 61
2.Методическая часть 74
2.1. Описание модели 75
Список использованной литературы 77

Весь текст будет доступен после покупки

ВВЕДЕНИЕ

1. Литературный обзор
1.1. Введение
В настоящее время для создания приборов высокочастотной электроники и оптоэлектроники широко используются структуры, содержащие субмикронные и нано- слои полупроводников, таких как монокристаллический кремний, арсенид галлия, а также другие полупроводники типа АIIIBV и AIIBVI. Одним из ключевых и массовых направлений применения данных гетероструктур является создание лазерных излучателей, применяемых в качестве мощных источников накачки в твердотельных лазерах. Одними из наиболее широко применяемых материалов, использующихся для создания приборов на их основе, являются трехкомпонентные твердые растворы InAsxP(1-x), GaAsxP(1-x) и четвертичный твердый раствор InyGa1-yAsxP1-x.
При этом возникает новая задача, которую необходимо решать, а именно, точное предсказание и технологическое обеспечение заданных излучательных характеристик гетероструктур в условиях промышленного метода получения – метода МОС-гидридной эпитаксии. Возможный способ получения эпитаксиальных структур необходимых параметров –– экспериментальный. Этот способ является более удобным и практичным, но более дорогостоящим, так как требует проведения большого количества экспериментов. Вторым и приоритетным способом является математическое моделирование технологического процесса с использованием фундаментальных физико-химических законов с учетом особенностей метода МОСГЭ, который позволяет изучить физико-химическую сущность механизмов формирования твердого раствора. Соответственно, определение зависимостей состава указанного твердого раствора от параметров роста целесообразно осуществлять вторым способом.

Весь текст будет доступен после покупки

отрывок из работы

1. Литературный обзор
1.1. Введение
В настоящее время для создания приборов высокочастотной электроники и оптоэлектроники широко используются структуры, содержащие субмикронные и нано- слои полупроводников, таких как монокристаллический кремний, арсенид галлия, а также другие полупроводники типа АIIIBV и AIIBVI. Одним из ключевых и массовых направлений применения данных гетероструктур является создание лазерных излучателей, применяемых в качестве мощных источников накачки в твердотельных лазерах. Одними из наиболее широко применяемых материалов, использующихся для создания приборов на их основе, являются трехкомпонентные твердые растворы InAsxP(1-x), GaAsxP(1-x) и четвертичный твердый раствор InyGa1-yAsxP1-x.
При этом возникает новая задача, которую необходимо решать, а именно, точное предсказание и технологическое обеспечение заданных излучательных характеристик гетероструктур в условиях промышленного метода получения – метода МОС-гидридной эпитаксии. Возможный способ получения эпитаксиальных структур необходимых параметров –– экспериментальный. Этот способ является более удобным и практичным, но более дорогостоящим, так как требует проведения большого количества экспериментов. Вторым и приоритетным способом является математическое моделирование технологического процесса с использованием фундаментальных физико-химических законов с учетом особенностей метода МОСГЭ, который позволяет изучить физико-химическую сущность механизмов формирования твердого раствора. Соответственно, определение зависимостей состава указанного твердого раствора от параметров роста целесообразно осуществлять вторым способом.

Весь текст будет доступен после покупки

Список литературы

1. Manasevit H.M. Single-crystal gallium arsenide on insulating substrates //Appl Phys Lett – 1968. – 12. – 156.
2. Manasevit H.M. The Use of Metalorganics in the Preparation of Semiconductor Materials IV . The Nitrides of Aluminum and Gallium / Erdmann FM, Simpson WI.// J Electrochem Soc. – 1971. – 118. –1864.
3. Manasevit H.M. The use of metalorganics in the preparation of semiconductor materials: Growth on insulating substrates / J Cryst Growth. – 1972. –13-14 – 306––314.
4. Stringfellow G.B. Organometallic vapor-phase epitaxy: theory and practice./G.B. Stringfellow – Boston: Academic Press, 1999.
5. Kisker D.W. Handbook of crystal growth. / D.W. Kisker, T.F. Kuech. – Amsterdam: Elsevier; 1994.
6. Dawson L.R. Liquid phase epitaxy / Prog Solid State Chem. – 1972. – 7. ¬117––39.
7. Panish M.B. Phase equilibria in ternary III– V systems. / Ilegems M. // Prog Solid State Chem. – 1972. – 7. – 39––83.
8. Акчурин Р.Х. МОС-гидридная эпитаксия: современное состояние и основные тенденции развития. // Материалы электронной техники. – 1999.– 2. – 4––12.
9. Stringfellow G. B. Epitaxy. / Reports on Progress in Physics – 1982. – 45. – 469.
10. Razeghi M. The MOCVD Challenge: A survey of GaInAsP-InP and GaInAsP-GaAs for photonic and electronic device applications. / M.Razeghi. – Northwestern University Illinois, USA, 2011. – 5––160.

Весь текст будет доступен после покупки

Почему студенты выбирают наш сервис?

Купить готовую работу сейчас
service icon
Работаем круглосуточно
24 часа в сутки
7 дней в неделю
service icon
Гарантия
Возврат средств в случае проблем с купленной готовой работой
service icon
Мы лидеры
LeWork является лидером по количеству опубликованных материалов для студентов
Купить готовую работу сейчас

не подошла эта работа?

В нашей базе 78761 курсовых работ – поможем найти подходящую

Ответы на часто задаваемые вопросы

Чтобы оплатить заказ на сайте, необходимо сначала пополнить баланс на этой странице - https://lework.net/addbalance

На странице пополнения баланса у вас будет возможность выбрать способ оплаты - банковская карта, электронный кошелек или другой способ.

После пополнения баланса на сайте, необходимо перейти на страницу заказа и завершить покупку, нажав соответствующую кнопку.

Если у вас возникли проблемы при пополнении баланса на сайте или остались вопросы по оплате заказа, напишите нам на support@lework.net. Мы обязательно вам поможем! 

Да, покупка готовой работы на сайте происходит через "безопасную сделку". Покупатель и Продавец финансово защищены от недобросовестных пользователей. Гарантийный срок составляет 7 дней со дня покупки готовой работы. В течение этого времени покупатель имеет право подать жалобу на странице готовой работы, если купленная работа не соответствует описанию на сайте. Рассмотрение жалобы занимает от 3 до 5 рабочих дней. 

У покупателя есть возможность снять готовую работу с продажи на сайте. Например, если необходимо скрыть страницу с работой от третьих лиц на определенный срок. Тариф можно выбрать на странице готовой работы после покупки.

Гарантийный срок составляет 7 дней со дня покупки готовой работы. В течение этого времени покупатель имеет право подать жалобу на странице готовой работы, если купленная работа не соответствует описанию на сайте. Рассмотрение жалобы занимает от 3 до 5 рабочих дней. Если администрация сайта принимает решение о возврате денежных средств, то покупатель получает уведомление в личном кабинете и на электронную почту о возврате. Средства можно потратить на покупку другой готовой работы или вывести с сайта на банковскую карту. Вывод средств можно оформить в личном кабинете, заполнив соответствущую форму.

Мы с радостью ответим на ваши вопросы по электронной почте support@lework.net

surpize-icon

Работы с похожей тематикой

stars-icon
arrowarrow

Не удалось найти материал или возникли вопросы?

Свяжитесь с нами, мы постараемся вам помочь!
Неккоректно введен e-mail
Нажимая на кнопку, вы соглашаетесь на обработку персональных данных